特許

J-GLOBAL ID：202103006580822400

細胞培養用ハイドロゲル、ゲルキット、細胞培養物の製造方法、及び細胞培養用ハイドロゲルの製造方法

発明者： 田口 光正 ,  大山 智子 ,  木村 敦 ,  大山 廣太郎 ,  石原 弘 ,  下川 卓志
出願人/特許権者： 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
代理人 (1件)： 新山 雄一
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2019025916
公開番号（公開出願番号）：WO2020-004646
出願日： 2019年06月28日
公開日（公表日）： 2020年01月02日
要約：

本発明の課題は、ハイドロゲルを足場に用いた細胞培養において、足場の原料に混入した未詳の成長因子に起因する増殖活性を低減しつつ、遺伝子発現を制御し得る技術を提供することである。 本発明は、細胞増殖活性が、線維芽細胞増殖因子-1活性換算で100pg/mL以下であり、弾性率が、0.1〜500kPaであり、親水性高分子の放射線架橋構造を有する、細胞培養用ハイドロゲルを提供する。

請求項（抜粋）：

細胞増殖活性が、線維芽細胞増殖因子-1活性換算で100pg/mL以下であり、 弾性率が、0.1〜500kPaであり、 親水性高分子の放射線架橋構造を有する、細胞培養用ハイドロゲル。

IPC (3件)：

C12M 3/00 ,  C12N 5/00 ,  C07K 14/78

FI (3件)：

C12M3/00 A ,  C12N5/00 ,  C07K14/78

Fターム (16件)：

4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC07 ,  4B065AA90X ,  4B065AC20 ,  4B065BB40 ,  4B065BC02 ,  4B065BC46 ,  4B065BC50 ,  4B065BD50 ,  4H045AA20 ,  4H045AA30 ,  4H045BA10 ,  4H045CA40 ,  4H045EA60 ,  4H045FA72