特許
J-GLOBAL ID：202103007458107225
インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高岡 亮一
, 小田 直
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-207701
公開番号（公開出願番号）：特開2018-073857
特許番号：特許第6821387号
出願日： 2016年10月24日
公開日（公表日）： 2018年05月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 型に形成された型側パターンと、基板ステージによって保持される基板に形成されたパターン領域上のインプリント材と、を接触させて前記パターン領域にインプリント材のパターンを形成するインプリント方法であって、
前記基板ステージの前記基板を保持する面に設けられた層に第1の光を照射する照射工程と、
前記インプリント材を硬化させることで前記パターンの形成を行う形成工程を含み、
前記照射工程において、前記層が前記第1の光を吸収することにより蓄積される熱によって前記パターン領域を変形させることで、前記型側パターンと前記パターン領域の形状差が低減され、
前記層の前記第1の光の吸収率は、前記パターン領域の前記第1の光の吸収率よりも高いことを特徴とするインプリント方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B81C 1/00 ( 200 6.01)
, B29C 59/02 ( 200 6.01)
, G11B 5/84 ( 200 6.01)
H01L 21/30 502 D
, B81C 1/00
, B29C 59/02 Z
, G11B 5/84 Z
