特許
J-GLOBAL ID：201303030288860062
インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高岡 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-202990
公開番号（公開出願番号）：特開2013-102132
出願日： 2012年09月14日
公開日（公表日）： 2013年05月23日
要約：
【課題】基板上に予め存在するパターン領域に形成されるパターンと、新たに形成する樹脂のパターンとの重ね合わせに有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】インプリント装置1は、型8に形成されているパターンを基板10上の樹脂14に転写する。このインプリント装置1は、型8に力を加え、型8に形成されているパターン領域を変形させるモールド形状補正機構201と、基板10上に形成されている基板側パターン領域20を加熱し、基板側パターン領域20を変形させるウエハ加熱機構6と、型8に形成されているパターン領域8aと、基板側パターン領域20との形状の差に関する情報を得、得られた情報に基づいて、型8に形成されているパターン領域8aと基板側パターン領域20との形状の差を低減するように、モールド形状補正機構201およびウエハ加熱機構6を制御する制御部7とを備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
型に形成されているパターンを基板上の樹脂に転写するインプリント装置であって、
前記型に力を加え、前記型に形成されているパターン領域を変形させる形状補正機構と、
前記基板上に形成されている基板側パターン領域を加熱し、前記基板側パターン領域を変形させる加熱機構と、
前記型に形成されているパターン領域と、前記基板側パターン領域との形状の差に関する情報を得、前記得られた情報に基づいて、前記型に形成されているパターン領域と前記基板側パターン領域との形状の差を低減するように、前記形状補正機構および前記加熱機構を制御する制御部と、
を備えることを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AJ06
, 4F209AK03
, 4F209AM32
, 4F209AR06
, 4F209AR12
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN09
, 4F209PN13
, 4F209PN20
, 4F209PQ11
, 5F146AA31
, 5F146DA08
, 5F146DA30
, 5F146DB05
, 5F146EB01
, 5F146EB02
, 5F146EC05
