特許
J-GLOBAL ID：202103007904539614
半導体デバイス用基板用の洗浄剤組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人池内アンドパートナーズ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-256228
公開番号（公開出願番号）：特開2018-109086
特許番号：特許第6847657号
出願日： 2016年12月28日
公開日（公表日）： 2018年07月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記成分A、下記成分B、下記成分C及び下記成分Dを含有し、
成分Cの含有量に対する成分Bの含有量の質量比B/Cが、0.13以上8以下であり、
洗浄時における成分B及び成分Cの合計含有量が、0.006質量%以上0.045質量%以下であり、
洗浄時における成分Aの含有量が、0.01質量%以上0.3質量%以下である、半導体デバイス用基板用の洗浄剤組成物。
成分A:硫酸
成分B:アスコルビン酸
成分C:チオ尿素及びジチオトレイトールの少なくとも一つ
成分D:水
IPC (4件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
, C11D 17/08 ( 200 6.01)
, C11D 3/20 ( 200 6.01)
, C11D 3/34 ( 200 6.01)
H01L 21/304 647 A
, C11D 17/08
, C11D 3/20
, C11D 3/34
