特許
J-GLOBAL ID：202103008117955070
エピラム化剤でコーティングされた表面を含む基板およびこのような基板のエピラム化のための方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
山川 茂樹
, 小池 勇三
, 山川 政樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-053413
公開番号（公開出願番号）：特開2016-194049
特許番号：特許第6796387号
出願日： 2016年03月17日
公開日（公表日）： 2016年11月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 少なくとも1つの部分がエピラム化剤でコーティングされた表面を含む基板であって、前記エピラム化剤は、少なくとも1種類の化合物を、主鎖による共有結合により連結されかつランダムに分布したM単位、N単位および任意に少なくとも1つのP単位を含むコポリマーの形態で含むことを特徴とし、ここで、
式中、R1、R2、R3は、同じであっても異なっていてもよく、H、C1-C10アルキル基、C2-C10アルケニル基であり、
Y、Xは、同じであっても異なっていてもよく、1個のヘテロ原子から形成されるか、または少なくとも1個の炭素原子を含みかつ少なくとも1個のヘテロ原子を含んでもよい直鎖もしくは分岐型炭化水素鎖から形成されるスペーサーアームであり、
Aは、同じであっても異なっていてもよく、基板に対するアンカー部分を形成し、かつ、Aが同じである場合、メチルチオ、-P(=O)(-ORb)2(ここで、2つのRbは独立してH、CH3または-Si(CH3)3である)、および3,4-ジヒドロキシフェニルからなる群から選択され、Aが異なっている場合、コポリマーは2つの異なるAアンカー部分、または、3つの異なるAアンカー部分:すなわち、メチルチオおよびアルキルジメトキシシラン若しくはジアルキルメトキシシラン;メチルチオおよび3,4-ジヒドロキシフェニル;または、チオール、トリメトキシシランおよび-P(=O)(-ORb)2(ここで、2つのRbは独立してH、CH3または-Si(CH3)3である);を含み
Lは、フッ素化C1-C20炭素部分であり、
R4は、同じであっても異なっていてもよく、H、CH3、少なくとも2個の炭素原子を含みかつ少なくとも1個のヘテロ原子を含んでもよい直鎖または分岐型、飽和または不飽和炭化水素鎖である、基板。
IPC (6件)：
C09K 3/00 ( 200 6.01)
, C08F 220/24 ( 200 6.01)
, C08F 220/38 ( 200 6.01)
, C08F 230/08 ( 200 6.01)
, C09D 155/00 ( 200 6.01)
, G04B 31/08 ( 200 6.01)
C09K 3/00 R
, C08F 220/24
, C08F 220/38
, C08F 230/08
, C09D 155/00
, G04B 31/08
