特許
J-GLOBAL ID：202103008137846286
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
伊東 忠重
, 伊東 忠彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-237635
公開番号（公開出願番号）：特開2018-093139
特許番号：特許第6804280号
出願日： 2016年12月07日
公開日（公表日）： 2018年06月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 処理容器と、
前記処理容器内に設けられ、基板を保持する載置台と、
前記載置台と対向する位置から第1のガス及び第1のパージガスを供給可能な第1のガス供給部と、
前記第1のガスをプラズマ化する高周波電源と、
前記載置台の周囲を囲むように設けられ、プラズマ化された前記第1のガスを遮蔽する遮蔽部と、
前記遮蔽部を介して前記処理容器内を排気する排気部と、
前記遮蔽部と前記排気部との間の空間に第2のガスを供給可能な第2のガス供給部と、
前記第1のガス供給部及び前記第2のガス供給部の動作を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記基板に対して前記第2のガスを供給する場合、前記第1のガス供給部から前記第1のパージガスを供給し、前記第2のガス供給部から前記第2のガスを供給するように、前記第1のガス供給部及び前記第2のガス供給部の動作を制御し、
前記制御部は、前記基板の端部から前記第2のガス供給部までの距離をL1、前記第1のパージガスの流れに垂直となる空間断面積をS1(x)、前記第1のパージガスの供給流量をQ1、前記処理容器内の圧力をP1、前記第1のパージガスに対する前記第2のガスの拡散係数をD1としたとき、下記の数式(2)により算出されるペクレ数Pe1が1より小さくなるように、前記第1のガス供給部から供給される前記第1のパージガスの流量及び第1のパージガスの流れに垂直となる空間断面積S1(x)の少なくともいずれかを制御することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
H01L 21/302 101 G
, H05H 1/46 M
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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