特許

J-GLOBAL ID：202103008582376044

配向膜作製方法

発明者： 齋藤 健一 ,  加治屋 大介 ,  竹本 昌一
出願人/特許権者： 国立大学法人広島大学
代理人 (1件)： 森 匡輝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-207508
公開番号（公開出願番号）：特開2021-081525
出願日： 2019年11月15日
公開日（公表日）： 2021年05月27日
要約：

【課題】常温、簡便な製造工程で、テンプレート機能を有する下地層を形成し、配向特性の高い配向膜を作製可能な配向膜作製方法を提供する。【解決手段】配向膜作製方法は、平滑な基板上に、多糖類系高分子の溶液を一方向に塗布して下地層を形成する下地層形成工程と、下地層上に、配向される配向材の溶液を塗布して配向材層を形成する配向材層形成工程と、を含む。これにより、多糖類系高分子で形成され、テンプレート機能を有する下地層と、配向された高分子で形成される配向材層とが積層された配向膜を作製することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

平滑な基板上に、多糖類系高分子の溶液を一方向に塗布して下地層を形成する下地層形成工程と、 前記下地層上に、配向される配向材の溶液を塗布して配向材層を形成する配向材層形成工程と、を含む、 ことを特徴とする配向膜作製方法。

IPC (2件)：

G02F 1/133 ,  G02B 5/30

FI (2件)：

G02F1/1337 520 ,  G02B5/30

Fターム (10件)：

2H149AB26 ,  2H149DB03 ,  2H149FA01Z ,  2H149FA02Z ,  2H149FA15Z ,  2H149FA42Z ,  2H290BD01 ,  2H290BE03 ,  2H290BF03 ,  2H290DA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 配向膜組成物及びそれを用いた光学素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-413974   出願人：大日本印刷株式会社

審査官引用 (1件)

• 配向膜組成物及びそれを用いた光学素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-413974   出願人：大日本印刷株式会社