特許
J-GLOBAL ID:202103010134113193
ウエハの表面の曲率決定システム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2020-533719
公開番号(公開出願番号):特表2021-507240
出願日: 2018年12月20日
公開日(公表日): 2021年02月22日
要約:
ウエハ(2)の表面(20)の曲率(200)をインサイチュで測定するためのシステム(1)であって、前記システム(1)は、 複数の波長(301;302;303)を含む入射光(3)を放射するように適合された、多波長光源モジュール(101)と; 前記入射光(3)を単一ビーム(5)に統合し、前記単一ビーム(5)が前記表面(20)上の単一測定スポット(202)で前記表面(20)に当たるように、前記単一ビーム(5)をウエハ(2)の表面(20)に向けてガイドするように構成された光学装置(104)と; 前記単一測定スポット(202)の前記表面(20)上で反射される前記単一ビーム(5)に対応する反射光(4)から、前記ウエハ(2)の前記表面(20)の曲率(200)を決定するように構成された曲率決定部(103)と、を含んでいる、システム(1)。
請求項(抜粋):
ウエハ(2)の表面(20)の曲率(200)をインサイチュで測定するためのシステム(1)であって、前記システム(1)は、
複数の波長(301;302;303)を含んでいる入射光(3)を放射するように適合された、多波長光源モジュール(101)と;
前記入射光(3)を単一ビーム(5)に統合するように構成され、さらに、前記単一ビーム(5)が前記表面(20)上において単一測定スポット(202)で前記表面(20)に当たるように、前記単一ビーム(5)をウエハ(2)の表面(20)に向けてガイドするように構成された光学装置(104)と;
前記単一測定スポット(202)で前記表面(20)上において反射されている前記単一ビーム(5)に対応する反射光(4)から、前記ウエハ(2)の前記表面(20)の曲率(200)を決定するように構成された曲率決定部(103)と;を含んでいる、システム(1)。
IPC (2件):
FI (2件):
G01B11/24 M
, H01L21/66 L
Fターム (24件):
2F065AA03
, 2F065AA46
, 2F065BB16
, 2F065CC19
, 2F065DD02
, 2F065DD03
, 2F065FF43
, 2F065GG23
, 2F065HH04
, 2F065JJ03
, 2F065MM04
, 2F065PP22
, 2F065QQ03
, 2F065QQ17
, 2F065QQ21
, 2F065QQ28
, 2F065QQ31
, 2F065QQ41
, 4M106AA01
, 4M106BA05
, 4M106CA47
, 4M106DH12
, 4M106DH32
, 4M106DJ06
引用特許:
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