特許
J-GLOBAL ID：202103010310423498

含フッ素単量体、それを用いた含フッ素重合体、それを用いた化学増幅型レジストおよびそれを用いたパターン形成方法

発明者：
森 和規

森 和規 について

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野村 祐介

野村 祐介 について

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宮澤 覚

宮澤 覚 について


出願人/特許権者：
セントラル硝子株式会社

セントラル硝子株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 安富国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-154224
公開番号（公開出願番号）：特開2017-145383
特許番号：特許第6908816号
出願日： 2016年08月05日
公開日（公表日）： 2017年08月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】下記式(1)で表される繰り返し単位のみからなる含フッ素重合体。 (式中、Aは炭素数3〜25の脂環式炭化水素基または炭素数5〜25の芳香族炭化水素基を有する有機基であり、有機基中の任意の数の水素原子はヒドロキシ基、炭素数1〜4のアルコキシ基、アセトキシ基または炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよく、R1はそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基であり、R2はそれぞれ独立にアセタール結合、ヘミアセタール結合またはヘミアセタールエステル結合である。R3はそれぞれ独立に炭素数1〜15の脂肪族炭化水素基、炭素数5〜15の芳香族炭化水素基、またはこれらの基が複数連結された有機基である。また、nは1〜3の整数であり、mは1〜3の整数である。)
IPC (5件)：
C08F 20/26 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/038 ( 200 6.01) ,  C07C 69/653 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01)
FI (5件)：
C08F 20/26 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/038 601 ,  C07C 69/653 CSP ,  G03F 7/20 521
引用特許：
審査官引用 (4件)
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