特許
J-GLOBAL ID：201003017374942960

含フッ素重合性単量体、含フッ素重合体、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者：
小森谷 治彦

小森谷 治彦 について

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角田 真一

角田 真一 について

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伊野宮 憲人

伊野宮 憲人 について

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森 高

森 高 について

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北元 崇勝

北元 崇勝 について

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菅藤 有将

菅藤 有将 について


出願人/特許権者：
セントラル硝子株式会社

セントラル硝子株式会社 について


代理人 (1件)： 小出 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-281161
公開番号（公開出願番号）：特開2010-163604
出願日： 2009年12月11日
公開日（公表日）： 2010年07月29日
要約：
【課題】液浸露光や、液浸のダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用の含フッ素重合性単量体および含フッ素重合体、それらを使ったレジスト材料及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表される含フッ素重合性単量体。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表される含フッ素重合性単量体。
IPC (5件)：
C08F 20/28 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/004 ,  C07C 69/54 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
C08F20/28 ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/004 501 ,  C07C69/54 B ,  H01L21/30 502R
Fターム (61件)：
2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  2H125AF17P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH25 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN11P ,  2H125AN39P ,  2H125AN62P ,  2H125AN64P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA18 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006BJ20 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BN10 ,  4H006BN20 ,  4H006KC14 ,  4H006KE20 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL05Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL09Q ,  4J100AM15Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA11R ,  4J100BB18P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (10件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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