特許
J-GLOBAL ID：202103012207399697
環状化合物、その製造方法、該環状化合物を含むフォトレジスト組成物及びその製造方法、並びに該組成物を用いたレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
きさらぎ国際特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-534402
特許番号：特許第6820562号
出願日： 2016年08月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記一般式(1)で表されることを特徴とする環状化合物。
(一般式(1)中、Xは、それぞれ独立して、下記一般式(2)で表される1価の基であり、Yは、それぞれ独立して、下記一般式(3)で表される2価の基であり、Zは、それぞれ独立して、下記一般式(4)で表される2価の基である。)
(一般式(2)中、R1は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜6の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基、炭素数3〜6の環状のアルキル基、アリール基、及びハロゲン原子からなる群から選択される置換基であり、aは、1〜2の整数であり、bは、1〜3の整数である。)
(一般式(4)中、R2は、水素原子、水酸基、炭素数1〜6の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基、炭素数3〜6の環状のアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基からなる群から選択される置換基である。*は結合手を示す。)
IPC (5件)：
C07C 39/17 ( 200 6.01)
, C07C 37/20 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07C 39/17 CSP
, C07C 37/20
, G03F 7/038 601
, G03F 7/004 531
, C07B 61/00 300
