特許
J-GLOBAL ID：202103012378362708
照射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
岸本 忠昭
, 松下 ひろ美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-151867
公開番号（公開出願番号）：特開2018-022584
特許番号：特許第6793936号
出願日： 2016年08月02日
公開日（公表日）： 2018年02月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 照射光を出射する光源手段と、前記光源手段に対向して配設された光学手段と、を備え、前記光学手段は、入射側に配設されたプリズムアレイと、出射側に配設されたレンズ手段とを含んでおり、
前記プリズムアレイは、所定方向に延びる複数のプリズム部を有し、前記レンズ手段は、凸状レンズから構成された第1レンズ部及び第2レンズ部を備え、前記プリズムアレイと前記レンズ手段の前記第1レンズ部及び前記第2レンズ部とは一体的に形成されており、
前記レンズ手段の前記第1レンズ部及び前記第2レンズ部は、前記所定方向に対して実質上垂直な方向に配設され、前記レンズ手段の片側の前記第1レンズ部は第1弧状表面を有し、その他側の前記第2レンズ部は第2弧状表面を有し、前記第1レンズ部の前記第1弧状表面の第1曲率半径は、前記第2レンズ部の前記第2弧状表面の第2曲率半径よりも大きく構成されており、
前記プリズムアレイの前記複数のプリズム部は、前記光源手段からの照射光を屈折させて互いに交差する第1の光束及び第2の光束を生成し、前記プリズムアレイからの前記第1光束は、前記レンズ手段の前記第1レンズ部から前記片側に出射されて主として第1領域を比較的狭く照射し、また前記プリズムアレイからの前記第2の光束は、前記レンズ手段の前記第2レンズ部から前記他側に出射されて主として第2領域を比較的広く照射することを特徴とする照射装置。
IPC (6件)：
F21V 5/00 ( 201 8.01)
, F21V 5/08 ( 200 6.01)
, F21V 5/02 ( 200 6.01)
, F21V 5/04 ( 200 6.01)
, G02B 5/00 ( 200 6.01)
, F21Y 115/10 ( 201 6.01)
F21V 5/00 510
, F21V 5/08
, F21V 5/00 320
, F21V 5/02 100
, F21V 5/04 200
, G02B 5/00 Z
, G02B 5/00 C
, F21Y 115:10
