特許
J-GLOBAL ID：202103012666932764

酸化物中空粒子の製造法

発明者：
梅津 基宏

梅津 基宏 について

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松井 克己

松井 克己 について

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増田 賢太

増田 賢太 について

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山崎 広樹

山崎 広樹 について


出願人/特許権者：
太平洋セメント株式会社

太平洋セメント株式会社 について


代理人 (5件)： 特許業務法人アルガ特許事務所 ,  高野 登志雄 ,  中嶋 俊夫 ,  村田 正樹 ,  山本 博人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-223023
公開番号（公開出願番号）：特開2018-080078
特許番号：特許第6807711号
出願日： 2016年11月16日
公開日（公表日）： 2018年05月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 平均粒子径が1〜20μmであり、レーザ回折散乱式粒度分布測定装置にて少なくとも2つ以上のピークの山を有する多峰性の粒度分布を有するアルミノシリケート中空粒子又はムライト中空粒子の製造法であって、(1)アルミノシリケート又はムライトを構成する元素を含有する溶液の噴霧液滴から溶媒を除去する工程、(2)乾燥された粒子を熱分解してアルミノシリケート中空粒子又はムライト中空粒子を形成する工程、及び(3)形成されたアルミノシリケート粒子又はムライト中空粒子の融点又はガラス転移温度の-300〜-200°Cの範囲で5分〜60分間加熱処理をする工程を有するアルミノシリケート中空粒子又はムライト中空粒子の製造法。
IPC (3件)：
C03B 19/10 ( 200 6.01) ,  C03C 11/00 ( 200 6.01) ,  C01B 33/12 ( 200 6.01)
FI (3件)：
C03B 19/10 Z ,  C03C 11/00 ,  C01B 33/12 A
引用特許：
審査官引用 (6件)
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