特許
J-GLOBAL ID：201603009118506314
中空粒子の製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (5件)：
特許業務法人アルガ特許事務所
, 高野 登志雄
, 中嶋 俊夫
, 村田 正樹
, 山本 博人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-117361
公開番号（公開出願番号）：特開2015-229622
出願日： 2014年06月06日
公開日（公表日）： 2015年12月21日
要約：
【課題】外殻に孔が存在せず、粒子強度も高い酸化物中空粒子を安価かつ大量に製造することができる製造装置の提供。【解決手段】酸化物を構成する元素を含有する溶液の噴霧液滴から酸化物中空粒子を製造する装置であって、前記溶液の噴霧液滴から溶媒を除去する乾燥ゾーン、乾燥された粒子を熱分解して酸化物中空粒子を形成するゾーン、及び形成された酸化物中空粒子の表面を溶融するゾーンの3段階加熱ゾーンを有することを特徴とする酸化物中空粒子製造装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
酸化物を構成する元素を含有する溶液の噴霧液滴から酸化物中空粒子を製造する装置であって、前記溶液の噴霧液滴から溶媒を除去する乾燥ゾーン、乾燥された粒子を熱分解して酸化物中空粒子を形成するゾーン、及び形成された酸化物中空粒子の表面を溶融するゾーンの3段階加熱ゾーンを有することを特徴とする酸化物中空粒子製造装置。
IPC (3件)：
C01B 13/14
, B01J 19/00
, B01J 2/04
C01B13/14 B
, B01J19/00 N
, B01J2/04
4G004EA08
, 4G042DA02
, 4G042DB10
, 4G042DB35
, 4G042DD03
, 4G042DD13
, 4G042DE06
, 4G042DE09
, 4G073BD03
, 4G073BD23
, 4G073BD30
, 4G073CE01
, 4G073CE04
, 4G073FD22
, 4G073FD24
, 4G073GA11
, 4G073GA12
, 4G075AA27
, 4G075BA05
, 4G075BB02
, 4G075BB03
, 4G075CA02
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EC01
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (15件)
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