特許
J-GLOBAL ID:202103013259722638

ワイヤグリッド構造を有する偏光素子およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-118749
公開番号(公開出願番号):特開2021-004986
出願日: 2019年06月26日
公開日(公表日): 2021年01月14日
要約:
【課題】光透過率および偏光度の少なくとも一方を連続的または段階的に変化させたグラデーション機能を付与した偏光素子を提供する。【解決手段】所定の波長領域において所定の光透過率を有する基板11と、上記基板の主面にワイヤグリッド構造を有する複数の偏光部12と、を備え、上記複数の偏光部は、上記基板の主面において所定の方向に透過率および偏光度の少なくとも一方が次第に変化するように、該所定の方向に沿って該主面の所定の面積当たりに占める割合が次第に変化するように配置してなる、偏光素子10が提供される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
所定の波長領域において所定の光透過率を有する基板と、 前記基板の主面にワイヤグリッド構造を有する複数の偏光部と、を備え、 前記複数の偏光部は、前記基板の主面において所定の方向に光透過率および偏光度の少なくとも一方が次第に変化するように、該所定の方向に沿って該主面の所定の面積当たりに占める割合が次第に変化するように配置してなる、偏光素子。
IPC (1件):
G02B 5/30
FI (1件):
G02B5/30
Fターム (7件):
2H149AA02 ,  2H149AA23 ,  2H149AB00 ,  2H149BA23 ,  2H149BB00 ,  2H149FA13Z ,  2H149FA41W
引用特許:
審査官引用 (4件)
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