特許
J-GLOBAL ID：202103013859952580
真空処理装置及び真空処理装置の運転方法。
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
特許業務法人弥生特許事務所
, 井上 俊夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-235361
公開番号（公開出願番号）：特開2017-128796
特許番号：特許第6907518号
出願日： 2016年12月02日
公開日（公表日）： 2017年07月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板に対して真空雰囲気下で処理するための真空処理装置において、
基板の搬送口が形成された処理容器内に、基板の載置台と当該載置台に向けてシャワー状にガスを供給するための第1のガス供給部とが設けられ、前記載置台よりも下方側に処理容器内を真空排気する第1の排気口が形成された真空処理モジュールと、
前記処理容器に前記搬送口を介して気密に接続された搬送室内に、前記処理容器内との間で基板の搬送を行うための搬送機構と不活性ガスを供給するための第2のガス供給部とが設けられ、搬送室内を真空排気する第2の排気口が形成された真空搬送モジュールと、
前記基板の搬送口を開閉するゲートバルブと、
前記第1のガス供給部から不活性ガスを供給し、その流量が第2のガス供給部から供給する不活性ガスの流量よりも小さく、かつ処理容器内の圧力が搬送室内の圧力よりも小さい状態で前記ゲートバルブを開くステップと、前記ゲートバルブを開くステップに次いで、前記搬送機構により前記処理容器内から搬送室に処理済み基板を搬送するステップと、前記ゲートバルブを開くステップにおける前記第1のガス供給部からの不活性ガスの流量を第1の流量とすると、前記処理済み基板を搬送するステップに続いて、第1のガス供給部から供給する不活性ガスの流量を第1の流量よりも少ない第2の流量に設定し、前記搬送室から前記処理容器内に流れ込む気流を形成するステップと、その後搬送室から前記処理容器内に未処理基板を搬送するステップと、しかる後前記ゲートバルブを閉じるステップと、を実行するための制御部と、を備えたことを特徴とする真空処理装置。
IPC (5件)：
C23C 16/52 ( 200 6.01)
, C23C 16/44 ( 200 6.01)
, H01L 21/677 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H01L 21/02 ( 200 6.01)
C23C 16/52
, C23C 16/44 J
, H01L 21/68 A
, H01L 21/302 101 G
, H01L 21/02 Z
