特許

J-GLOBAL ID：202103013886131610

レジスト組成物及びレジスト組成物の製造方法

発明者： 中島 綾子 ,  古澤 孝弘 ,  星野 学
出願人/特許権者： 国立大学法人大阪大学 ,  日本ゼオン株式会社
代理人 (4件)： 杉村 憲司 ,  杉村 光嗣 ,  寺嶋 勇太 ,  結城 仁美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-210795
公開番号（公開出願番号）：特開2021-081657
出願日： 2019年11月21日
公開日（公表日）： 2021年05月27日
要約：

【課題】レジストパターンの形成に用いた場合に欠陥が生じにくいレジスト組成物、及びかかるレジスト組成物の製造方法を提供する。【解決手段】溶媒と、芳香族ビニル単量体単位及びα-ハロゲノ(メタ)アクリル酸エステル単量体単位を有し、且つ、分子量分布の値が、2.50超7.00以下である、重合体と、を含む、レジスト組成物である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

溶媒と、 芳香族ビニル単量体単位及びα-ハロゲノ(メタ)アクリル酸エステル単量体単位を有する重合体と、を含む、レジスト組成物であって、 前記重合体の分子量分布の値が、2.50超7.00以下である、 レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  C08F 220/22 ,  C08F 212/04

FI (3件)：

G03F7/039 501 ,  C08F220/22 ,  C08F212/04

Fターム (19件)：

2H225AM10P ,  2H225AM14P ,  2H225AM30P ,  2H225AN31P ,  2H225CA12 ,  2H225CB18 ,  2H225CC03 ,  2H225CC20 ,  2H225CD05 ,  4J100AB03Q ,  4J100AL08P ,  4J100BB01P ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100FA28 ,  4J100JA38