特許
J-GLOBAL ID：202103014705083292
正荷電膜の製造のための方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
村山 靖彦
, 実広 信哉
, 阿部 達彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-510357
特許番号：特許第6959329号
出願日： 2016年08月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 正荷電膜を製造するための方法であって、
a) N-メチル-2-ピロリドン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、アセトン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル及びジメチルスルホキシドからなる群から選択される少なくとも1種の非プロトン性溶媒とポリアリールエーテルと2,3,4,5-テトラヒドロチオフェン-1,1-ジオキシドとポリカチオンとを混合する工程であって、ここで、2,3,4,5-テトラヒドロチオフェン-1,1-ジオキシドが、均質な混合物中に前記混合物の総質量に基づいて50%〜80%存在し、ポリカチオンが、均質な混合物中に前記混合物の総質量に基づいて0.1%〜10%存在する工程と、
b)混合物を、ポリアリールエーテルの臨界混合温度を超えて加熱して、透明で均質な混合物を得る工程と、
c)前記混合物を、前記臨界混合温度を下回るまで、冷却する工程と、
d)続いて非溶媒誘起相分離法を行って正荷電膜の形成をもたらす工程と
を含む、方法。
IPC (4件)：
B01D 71/68 ( 200 6.01)
, B01D 61/14 ( 200 6.01)
, B01D 69/02 ( 200 6.01)
, C08J 5/18 ( 200 6.01)
B01D 71/68
, B01D 61/14 500
, B01D 69/02
, C08J 5/18 CEZ
