特許

J-GLOBAL ID：202103015068550473

光触媒及び光触媒の製造方法

発明者： 亀井 真之介 ,  古川 茂樹
出願人/特許権者： 学校法人日本大学
代理人 (4件)： 西澤 和純 ,  小林 淳一 ,  五十嵐 光永 ,  志賀 正武
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-226749
公開番号（公開出願番号）：特開2018-083147
特許番号：特許第6811475号
出願日： 2016年11月22日
公開日（公表日）： 2018年05月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 硫酸チタニルと塩基性のOH基含有原料とが添加され、アルカリ性の溶液中にキャビテーションを発生させ、擬似水熱合成により二酸化チタンを合成する工程を有する、光触媒の製造方法。

IPC (5件)：

B01J 35/02 ( 200 6.01) ,  B01J 37/34 ( 200 6.01) ,  B01J 37/04 ( 200 6.01) ,  B01J 37/03 ( 200 6.01) ,  B01J 21/06 ( 200 6.01)

FI (6件)：

B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 37/34 ,  B01J 37/04 102 ,  B01J 37/03 Z ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 A

引用特許：

出願人引用 (3件)

• パターン形成方法、および、このパターン形成方法により製造された電子デバイス、光学素子、光触媒性部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-283886   出願人：東陶機器株式会社
• アナターゼ型二酸化チタン粉末の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-103829   出願人：株式会社村田製作所
• 高活性光触媒粒子、その製造方法及びその用途
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-110623   出願人：昭和電工株式会社

審査官引用 (3件)

• パターン形成方法、および、このパターン形成方法により製造された電子デバイス、光学素子、光触媒性部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-283886   出願人：東陶機器株式会社
• アナターゼ型二酸化チタン粉末の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-103829   出願人：株式会社村田製作所
• 高活性光触媒粒子、その製造方法及びその用途
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-110623   出願人：昭和電工株式会社

引用文献：

出願人引用 (1件)

• Preparation of highly photocatalytic active nano-sized TiO2 particles via ultrasonic irradiation

審査官引用 (2件)

• Preparation of highly photocatalytic active nano-sized TiO2 particles via ultrasonic irradiation
• Preparation of highly photocatalytic active nano-sized TiO2 particles via ultrasonic irradiation