特許

J-GLOBAL ID：202103015264620323

化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法

発明者： 佐藤 宏樹 ,  綿貫 勝一
出願人/特許権者： 株式会社ADEKA
代理人 (4件)： 曾我 道治 ,  梶並 順 ,  大宅 一宏 ,  飯野 智史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-226604
公開番号（公開出願番号）：特開2018-083771
特許番号：特許第6811514号
出願日： 2016年11月22日
公開日（公表日）： 2018年05月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 下記一般式(1)で表される化合物。 (式中、R1、R2、R3、R4及びR5は各々独立に水素、炭素原子数1〜4の直鎖若しくは分岐状のアルキル基又は炭素原子数3〜12のトリアルキルシリル基を表し、R6、R7及びR8は各々独立に炭素原子数1〜4の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し、M1はハフニウム原子又はジルコニウム原子を表し、nは3である。)

IPC (6件)：

C07F 17/00 ( 200 6.01) ,  C23C 16/18 ( 200 6.01) ,  H01L 21/316 ( 200 6.01) ,  H01L 21/318 ( 200 6.01) ,  H01L 21/31 ( 200 6.01) ,  C07F 7/00 ( 200 6.01)

FI (8件)：

C07F 17/00 CSP ,  C23C 16/18 ,  H01L 21/316 X ,  H01L 21/318 B ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/31 C ,  C07F 7/00 Z ,  C07F 7/00 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 膜形成材料および膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-163365   出願人：株式会社トリケミカル研究所
• 有機金属錯体およびそれを用いた金属シリケート薄膜の蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-121916   出願人：學校法人浦項工科大學校

引用文献：

審査官引用 (1件)

• European Polymer Journal, 2004, 40, 1051-1056