特許
J-GLOBAL ID:202103015292844407
光を検出するための装置と方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, 森田 拓
, 前川 純一
, 二宮 浩康
, 上島 類
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-544929
特許番号:特許第6835732号
出願日: 2016年02月24日
請求項(抜粋):
【請求項1】 顕微鏡において使用するための、光(16c)を検出するための装置であって、前記装置は、共焦点ピンホール(18)と、当該共焦点ピンホール(18)上で結像される検出光ビーム(16)を形成しながら、試料(15)を照明するための照明光ビームを形成するための手段と、少なくとも1つのシリコン光電子倍増管(SiPM)と、光学系(23)とを備えており、
前記シリコン光電子倍増管(SiPM)は、複数の単一光子アバランシェダイオード(SPAD)(3)のアレイ(4)から形成されている検出面(22)を有している、装置であって、
前記光学系(23)は、フラットトップ光学系(24)として形成されており、前記フラットトップ光学系(24)は、前記検出面(22)の全体が一定の強度の光ビーム領域でもって可能な限り完全に覆われるように、前記光(16c)を成形し、前記フラットトップ光学系(24)は、前記共焦点ピンホール(18)と前記シリコン光電子倍増管(SiPM)との間に配置されていることを特徴とする、
装置。
IPC (5件):
H01L 31/0232 ( 201 4.01)
, H01L 31/107 ( 200 6.01)
, G02B 21/06 ( 200 6.01)
, G02B 5/18 ( 200 6.01)
, G02B 1/11 ( 201 5.01)
FI (5件):
H01L 31/02 D
, H01L 31/10 B
, G02B 21/06
, G02B 5/18
, G02B 1/11
引用特許:
審査官引用 (6件)
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光検出装置および方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2012-155433
出願人:ライカマイクロシステムスツェーエムエスゲーエムベーハー
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欠陥検査装置および欠陥検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2012-102819
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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多光子イメージ化装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2002-542854
出願人:アンスティテュ・キュリ, サーントル・ナシヨナル・ドゥ・ラ・ルシェルシェ・シヤンティフィック
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欠陥検査方法およびその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-256483
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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走査型顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-002931
出願人:株式会社ニコン
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光検出装置およびCT装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2013-123821
出願人:株式会社東芝
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