特許
J-GLOBAL ID：202103015317708015
パターニングプロセスについての情報を決定する方法、測定データにおける誤差を低減する方法、メトロロジプロセスを較正する方法、メトロロジターゲットを選択する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
森下 賢樹
, 青木 武司
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-547286
公開番号（公開出願番号）：特表2021-505973
出願日： 2018年11月14日
公開日（公表日）： 2021年02月18日
要約：
【解決手段】本開示は、パターニングプロセスについての情報を決定することに関する。一方法においては、基板上の複数のメトロロジターゲットの各々に適用されるメトロロジプロセスから測定データが取得される。各メトロロジターゲットについての測定データは、少なくとも第1寄与度および第2寄与度を備える。第1寄与度は、メトロロジターゲットを形成するために使用されるパターニングプロセスの対象のパラメータに由来する。第2寄与度は、メトロロジプロセスにおける誤差に由来する。この方法は、さらに、複数のメトロロジターゲットのすべてから取得された測定データを、メトロロジプロセスにおける誤差についての情報を取得するために使用することと、メトロロジプロセスにおける誤差について取得された情報を、各メトロロジターゲットについて対象のパラメータの値を抽出するために使用することと、を備える。【選択図】図23
請求項（抜粋）：
パターニングプロセスについての情報を決定する方法であって、
基板上の複数のメトロロジターゲットの各々に適用されるメトロロジプロセスから測定データを取得することを備え、
各メトロロジターゲットについての測定データが、少なくとも第1寄与度および第2寄与度を備え、前記第1寄与度が前記メトロロジターゲットを形成するために使用されるパターニングプロセスの対象のパラメータに由来し、前記第2寄与度が前記メトロロジターゲットを測定するために使用される前記メトロロジプロセスにおける誤差に由来し、
前記方法は、さらに、
前記複数のメトロロジターゲットのすべてから取得された前記測定データを、前記メトロロジプロセスにおける誤差についての情報を取得するために使用することと、
前記メトロロジプロセスにおける誤差について取得された前記情報を、各メトロロジターゲットについて前記対象のパラメータの値を抽出するために使用することと、を備える方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 521
, H01L21/66 J
2H197HA03
, 2H197HA04
, 2H197HA05
, 2H197HA10
, 2H197JA17
, 2H197JA22
, 2H197JA23
, 2H197JA28
, 4M106AA01
, 4M106BA05
, 4M106CA21
, 4M106CA39
, 4M106DB03
, 4M106DB04
, 4M106DB07
, 4M106DB08
, 4M106DB12
, 4M106DH12
, 4M106DH32
, 4M106DH38
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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