特許

J-GLOBAL ID：202103015538271215

歩行・足部評価方法、歩行・足部評価プログラムおよび歩行・足部評価装置

発明者： 太田 裕治 ,  安在 絵美 ,  中嶋 香奈子 ,  留奥 美希 ,  才脇 直樹 ,  笹田 安那
出願人/特許権者： 国立大学法人お茶の水女子大学 ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所 ,  国立大学法人奈良女子大学
代理人 (2件)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2021-123638
公開番号（公開出願番号）：特開2021-166898
出願日： 2021年07月28日
公開日（公表日）： 2021年10月21日
要約：

【課題】ユーザの日常の歩行状態をデータとして把捉し、さらに複数のユーザのデータが統一的に収集され、適切な分析・評価が行われるようにする。【解決手段】複数のユーザが使用する靴のインソールに設けられた1以上のセンサから歩行時および静止立位時における所定時間の少なくとも足底圧のデータを取得し、取得されたデータを解析して、ユーザ毎の、歩行時における少なくとも足底圧パラメータ、足圧中心パラメータおよび時間パラメータと、静止立位時における少なくとも足底圧パラメータおよび足圧中心パラメータとを取得して蓄積する、処理をコンピュータが実行する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数のユーザが使用する靴のインソールに設けられた1以上のセンサから歩行時および静止立位時における所定時間の少なくとも足底圧のデータを取得し、 取得されたデータを解析して、ユーザ毎の、歩行時における少なくとも足底圧パラメータ、足圧中心パラメータおよび時間パラメータと、静止立位時における少なくとも足底圧パラメータおよび足圧中心パラメータとを取得して蓄積し、 前記静止立位時における足底圧パラメータおよび足圧中心パラメータは、前記データのうち、立位姿勢が一定時間維持された状態のデータに基づいて生成される、 処理をコンピュータが実行することを特徴とする歩行・足部評価方法。

IPC (1件)：

A61B 5/11

FI (1件)：

A61B5/11 210

Fターム (3件)：

4C038VA12 ,  4C038VB14 ,  4C038VC20

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 足底圧計測装置及びその処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-049690   出願人：テルモ株式会社
• 通信システムおよび情報処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-048845   出願人：三洋電機株式会社, 鳥取三洋電機株式会社
• 生体情報分析装置、生体情報分析システム及び生体情報分析プログラム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-002417   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 靴またはインソールのフィッティングナビゲーションシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-086581   出願人：株式会社COMFORT-LAB