特許
J-GLOBAL ID：202103016413606238
OLED基板及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
飯田 雅人
, 崔 允辰
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-522662
特許番号：特許第6800327号
出願日： 2016年12月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下地基板を用意し、前記下地基板上に間隔をおいて設けられた、複数の陽極を形成し、
前記下地基板および前記複数の陽極に無機膜層を堆積させたるステップ1と、
ハーフトーンマスクを用いて前記無機膜層をパターン化処理して、画素定義層と、前記画素定義層に設けられる複数のスペーサと、前記画素定義層上に設けられてそれぞれ前記複数の陽極に対応する複数の開口部と、を得て、各開口部が対応する陽極の少なくとも一部を露出し、第1の基板を製造するステップ2と、
前記第1の基板にフォトレジスト層を塗布し、前記フォトレジスト層が前記画素定義層、前記複数のスペーサ、及び前記陽極を覆う;前記フォトレジスト層を塗布した前記第1の基板を切断し、複数の第2の基板を得るステップ3と、
前記第2の基板上の前記フォトレジスト層を剥離し、第3の基板を得るステップ4と、
前記第3の基板上の前記複数の開口部において下から上の順に正孔注入層と、正孔輸送層と、有機発光層と、電子輸送層と、電子注入層と、陰極とを形成し、OLED基板を得るステップ5と、
を含む、OLED基板の製造方法。
IPC (6件)：
H05B 33/10 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H05B 33/26 ( 200 6.01)
, H05B 33/12 ( 200 6.01)
, H05B 33/22 ( 200 6.01)
, H05B 33/28 ( 200 6.01)
H05B 33/10
, H05B 33/14 A
, H05B 33/26 Z
, H05B 33/12 B
, H05B 33/22 Z
, H05B 33/22 D
, H05B 33/22 B
, H05B 33/28
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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