特許
J-GLOBAL ID：202103018632283994

制御装置、光干渉断層撮影装置、光干渉断層撮影装置の制御方法、及びプログラム

発明者：
正木 俊文

正木 俊文 について

, 
富田 律也

富田 律也 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (4件)： 岡部 讓 ,  越智 隆夫 ,  吉澤 弘司 ,  齋藤 正巳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-235153
公開番号（公開出願番号）：特開2021-101965
出願日： 2019年12月25日
公開日（公表日）： 2021年07月15日
要約：
【課題】眼底正面画像から被検眼の状態に応じたより適切な撮影パラメータを設定することができる制御装置を提供する。【解決手段】被検眼の眼底正面画像と被検眼の病名情報とを含む学習データを用いた学習により得た学習済モデルを用いて被検眼の眼底正面画像から被検眼の病名情報を取得するとともに、被検眼の眼底正面画像から病変の位置、大きさ及び種類の少なくとも一つを示す病変情報を取得する演算処理部と、取得された病名情報及び病変情報を用いて、断層画像の撮影パラメータを設定するパラメータ設定部とを備える、制御装置。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
被検眼の眼底正面画像と被検眼の病名情報とを含む学習データを用いた学習により得た学習済モデルを用いて被検眼の眼底正面画像から被検眼の病名情報を取得するとともに、被検眼の眼底正面画像から病変の位置、大きさ及び種類の少なくとも一つを示す病変情報を取得する演算処理部と、 前記取得された病名情報及び病変情報を用いて、断層画像の撮影パラメータを設定するパラメータ設定部と、 を備える、制御装置。
IPC (2件)：
A61B 3/10 ,  G01N 21/17
FI (2件)：
A61B3/10 100 ,  G01N21/17 625
Fターム (28件)：
2G059AA05 ,  2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF02 ,  2G059FF04 ,  2G059GG02 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ15 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  4C316AA09 ,  4C316AA10 ,  4C316AA24 ,  4C316AB02 ,  4C316AB11 ,  4C316AB12 ,  4C316AB16 ,  4C316FA18 ,  4C316FB06 ,  4C316FB16 ,  4C316FB21 ,  4C316FB22 ,  4C316FB27 ,  4C316FZ01
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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