特許
J-GLOBAL ID:202103021119029293

カルボシランの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人秀和特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2020-054124
公開番号(公開出願番号):特開2021-155337
出願日: 2020年03月25日
公開日(公表日): 2021年10月07日
要約:
【課題】機能性化学品として有用なカルボシランの効率的製造方法の提供。【解決手段】Si-OCOR結合を有するアシロキシシランから、塩基触媒の存在下で、脱炭酸を行う脱炭酸反応工程を含む、Si-R結合を有するカルボシランの製造方法であって、次の(1)〜(3)の何れかの条件を満たし、アシロキシシランを形成する前工程を含んでいてもよい、カルボシランの製造方法。(1)前記塩基触媒が、共役酸のpKaが8〜50である化合物;ホスファゼン化合物;二環式アミン化合物;グアニジン化合物;アミジン化合物;または、それらの化合物に由来する基を有する、有機ポリマー系もしくは無機系の化合物;である。(2)前記Si-OCOR結合のRが、ハロゲン原子、ニトロ基、もしくはシアノ基を有するアルキル基もしくはアリール基;またはアルキニル基;である。(3)前記脱炭酸反応工程の反応のエネルギー差の計算値ΔUが、20kcal/mol以下である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
Si-OCOR結合(OCOはオキシカルボニル基のO-C(=O)を示す。Rは炭素数1〜20の炭化水素基または水素原子を示し、前記炭化水素基の炭素原子に結合した水素原子の一部または全部は、反応に関与しない基で置換されていてもよい。)を有するアシロキシシランから、塩基触媒の存在下で、脱炭酸を行う脱炭酸反応工程を含む、Si-R結合を有するカルボシランの製造方法であって、次の(1)〜(3)の何れかの条件を満たし、アシロキシシランを形成する前工程を含んでいてもよい、カルボシランの製造方法。 (1)前記塩基触媒が、共役酸のpKaが8〜50の範囲である化合物;ホスファゼン化合物;二環式アミン化合物;グアニジン化合物;アミジン化合物;または、それらの化合物に由来する基を有する、有機ポリマー系の化合物もしくは無機系の化合物;である。 (2)前記Si-OCOR結合のRが、炭素原子に結合した水素原子の一部または全部がハロゲン原子、ニトロ基、もしくはシアノ基で置換されたアルキル基もしくはアリール基;または、アルキニル基;である。 (3)前記アシロキシシランからの脱炭酸でカルボシランが生成する反応のエネルギー差の計算値ΔU(エネルギー差の計算値ΔUとは、密度汎関数法(B3LYP/6-31G**の計算レベル)による原系と生成系のエネルギー差(生成系分子の合計の内部エネルギー-原系分子の内部エネルギー)の計算値を示す。)が、20kcal/mol以下である。
IPC (6件):
C07F 7/12 ,  C07F 7/10 ,  C07F 7/18 ,  C07F 7/08 ,  B01J 31/02 ,  B01J 31/06
FI (9件):
C07F7/12 D ,  C07F7/10 B ,  C07F7/12 ,  C07F7/18 E ,  C07F7/08 C ,  C07F7/12 X ,  C07F7/12 W ,  B01J31/02 102Z ,  B01J31/06 M
Fターム (48件):
4G169AA03 ,  4G169AA06 ,  4G169BA21A ,  4G169BA21B ,  4G169BA22A ,  4G169BA22B ,  4G169BA47A ,  4G169BE01A ,  4G169BE01B ,  4G169BE13A ,  4G169BE13B ,  4G169BE14A ,  4G169BE14B ,  4G169BE16A ,  4G169BE19B ,  4G169BE25A ,  4G169BE25B ,  4G169BE38A ,  4G169BE38B ,  4G169CB35 ,  4G169CB61 ,  4G169CB62 ,  4G169CB80 ,  4G169DA02 ,  4G169DA08 ,  4G169FC09 ,  4H039CA92 ,  4H039CD10 ,  4H039CD40 ,  4H039CG40 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP02 ,  4H049VQ20 ,  4H049VQ76 ,  4H049VQ78 ,  4H049VR22 ,  4H049VR23 ,  4H049VR24 ,  4H049VR41 ,  4H049VR42 ,  4H049VS03 ,  4H049VS12 ,  4H049VS20 ,  4H049VT27 ,  4H049VT29 ,  4H049VW01 ,  4H049VW02
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)
引用文献:
出願人引用 (3件)
  • Synthesis, 1980, pp.626-627
  • Russ. Chem. Bull., 1995, Vol.44, No.1, pp.145-148
  • Tetrahedron Letters, 1980, Vol.21, pp.835-838
審査官引用 (6件)
  • Synthesis, 1980, pp.626-627
  • Synthesis, 1980, pp.626-627
  • Russ. Chem. Bull., 1995, Vol.44, No.1, pp.145-148
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