特許
J-GLOBAL ID：202103021251066181
位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-134915
公開番号（公開出願番号）：特開2018-005102
特許番号：特許第6903878号
出願日： 2016年07月07日
公開日（公表日）： 2018年01月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 透明基板上に、フッ素系のガスによってドライエッチング可能な位相シフト膜と、その上にフッ素系のガスでは実質的にエッチングされないクロムを主成分とする遮光膜と、更にその上に、フッ素系のガスでエッチング可能で、かつ塩素系および酸素系のガスにより実質的にエッチングされないハードマスク層と、をこの順に備えた位相シフトマスクブランクにおいて、深さ方向に対し、膜組成の違いによりエッチングレートが調整された遮光膜を有することを特徴とし、
前記遮光膜のエッチングレートが、前記遮光膜中の窒素含有量と酸素含有量を、膜厚方向に変化させることにより、変化していることを特徴とし、
前記遮光膜の酸素含有量が、前記遮光膜の上部の方が下部よりも少なく、前記遮光膜の下部においては40at%であることを特徴とする位相シフトマスクブランク。
IPC (3件)：
G03F 1/26 ( 201 2.01)
, G03F 1/80 ( 201 2.01)
, C23C 14/06 ( 200 6.01)
G03F 1/26
, G03F 1/80
, C23C 14/06 P
