特許
J-GLOBAL ID：201603002059863006
位相反転ブランクマスク及びフォトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
伊東 忠重
, 伊東 忠彦
, 大貫 進介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-142712
公開番号（公開出願番号）：特開2016-045490
出願日： 2015年07月17日
公開日（公表日）： 2016年04月04日
要約：
【課題】 位相反転ブランクマスク及びフォトマスクを提供する。【解決手段】 位相反転ブランクマスクは、遮光性膜が第1遮光層及び第2遮光層を具備した多層膜又は連続膜構造を有する金属化合物からなる。第2遮光層は、第1遮光層に比べて、単位厚さ当たり露光波長に対する光学密度が高く、第1遮光層は、遮光性膜の全厚の70%〜90%を占めるように構成される。このようなブランクマスクは、遮光性が確保され、エッチング速度が改善され、レジスト膜を薄膜化でき、微細パターンの具現が可能である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透明基板上に位相反転膜及び遮光性膜が具備された位相反転ブランクマスクであって、
前記遮光性膜は、前記透明基板に隣接して形成された第1遮光層と前記第1遮光層上に形成された第2遮光層とを含む多層膜又は連続膜のいずれかの構造を有する金属化合物からなり、
前記第2遮光層は、前記第1遮光層に比べて単位厚さ(Å)当たり露光波長に対する光学密度が高いことを特徴とする位相反転ブランクマスク。
IPC (5件)：
G03F 1/32
, G03F 1/58
, G03F 1/80
, C23C 14/06
, H01L 21/306
G03F1/32
, G03F1/58
, G03F1/80
, C23C14/06 P
, H01L21/302 104Z
2H195BB03
, 2H195BB16
, 2H195BB31
, 2H195BB35
, 2H195BC04
, 2H195BC05
, 2H195BC11
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA41
, 4K029BA43
, 4K029BA54
, 4K029BA55
, 4K029BA58
, 4K029BB02
, 4K029CA06
, 4K029DC34
, 4K029DC39
, 5F004AA04
, 5F004DB12
, 5F004DB13
, 5F004DB15
, 5F004EA03
, 5F004EA05
, 5F004EB07
