MEMS対応赤外線吸収膜の開発と応用

実施期間：2007 - 2007
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 工学部, 教授 )
研究概要：

従来の赤外線吸収膜は、MEMS(微小電気機械システム)製造工程に耐えず、更に経時変化の問題があり、ニクロム膜やSiNx膜も使用されているが吸収率が小さく(80%以下)、熱型赤外線センサの性能に直結する新しい赤外線吸収膜が求められていた。本開発研究は、赤外吸収膜の吸収メカニズムに基づき、本提案者の特許を実現するもので、赤外線波長と疎密傾斜型赤外線吸収膜の最適化とその実証を中心に、所望の赤外線波長帯で90%以上の吸収条件を確立する共に、赤外線センサに適用する。

, , ,

研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

前のページに戻る