高窒素含有・超硬質アモルファスカーボンナイトライドの創製

実施期間：2007 - 2007
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 物質・材料系, 助教授 )
研究概要：

本研究課題は高窒素含有・高硬度を合わせ持つアモルファス窒化炭素(a-CNx)薄膜の形成を目的とし、以下の研究を行う。a-CNxの形成方法として、ArのプラズマフローによるBrCNの分解反応で生成したCNラジカルを基板上に堆積させ、同時に、外部から別のRF電源を用いて基板ステージにRFバイアス電圧を印加する。電子とイオンの移動度の違いによって基板上に負の直流成分が現れ、イオン(主にAr+)が引き付けられて膜表面を衝撃、結合改質を生じさせる。目標は硬度40 GPaを上回るa-CNxを再現性よく形成させることである。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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