極微細加工用レジスト研究とプロセスシミュレーターの開発

体系的課題番号：JPMJCR0745
実施期間：2007 - 2012
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 産業科学研究所, 教授 )
DOI： https://doi.org/10.52926/JPMJCR0745
研究概要：

イオン化放射線(EUV、電子線等)を用いる極微細加工用レジスト中に起きる反応機構を解明し、ナノ分子設計およびプロセス設計に活用し、プロセスシミュレーターの開発を行います。

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研究制度：＞＞
上位研究課題：次世代エレクトロニクスデバイスの創出に資する革新材料・プロセス研究
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

報告書等：

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