Co基ホイスラー合金を用いた高品位トンネル接合の作製と高周波発振の実証研究

実施期間：2009 - 2012
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 環境・エネルギー材料部門磁性材料ユニット, スピントロニクスグループリーダー )
研究概要：

本研究交流は、ホイスラー合金の有する大きなスピン分極率と低ダンピングという優れた特性を最大限に引き出し、スピン注入磁化反転の低電流化や、これまでにない高出力、高効率などの性能を有する高周波発振素子の実現を目指す。具体的には、日本側は高品位単結晶ホイスラー合金薄膜の成長と微小素子の作製を分担し、英国側は多結晶ホイスラー合金薄膜と交換バイアスを付与したホイスラー合金薄膜を作製、および、高度な構造と磁気特性の評価を分担する。両国の研究チームが相互補完的に取り組むことで、不揮発固体磁気メモリ(MRAM)開発のブレークスルー、マイクロ波を利用する技術分野において新しい応用を拓くことが期待される。

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研究制度：＞＞＞
上位研究課題：先端材料
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

報告書等：

2012 終了報告書 , 事後評価書

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