高次モード分散工学による可視非線形フォトニクス【JST・京大機械翻訳】

Zhao Yun; Ji Xingchen; Kim Bok Young; Donvalkar Prathamesh S.; Jang Jae K.; Joshi Chaitanya; Yu Mengjie; Joshi Chaitali; Domeneguetti Renato R.; Barbosa Felippe A. S.; Nussenzveig Paulo; Okawachi Yoshitomo; Lipson Michal; Gaeta Alexander L.

プレプリント

J-GLOBAL ID：202202203290272338 整理番号：22P0068470

高次モード分散工学による可視非線形フォトニクス【JST・京大機械翻訳】

Visible nonlinear photonics via high-order-mode dispersion engineering

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発行年： 2019年07月10日プレプリントサーバーでの情報更新日： 2020年02月20日
JST資料番号： O7000B 資料種別：プレプリント
記事区分：プレプリント発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

※このプレプリント論文は学術誌に掲載済みです。なお、学術誌掲載の際には一部内容が変更されている可能性があります。

過去10年間,近赤外および中赤外領域における古典的および量子応用のためのチップベース非線形フォトニックデバイスにおいて顕著な進歩が実現されてきた。しかし,可視および近可視域では,主に,位相整合3次パラメトリックプロセスに挑戦する大きな法線材料群速度分散(GVD)により,ほとんど実証されていない。本論文では,高次導波路モードの分散工学を利用することが,可視および近可視領域における小または異常GVD,および四波混合プロセスの位相整合を可能にする導波路分散を提供することを示した。この概念のパワーを,シリコン窒化物マイクロ共振器において,近可視モード同期Kerr周波数コムとRb遷移と両立する狭帯域光子対光源で実証した。これらの実現は,時間と周波数計測,スペクトル較正,量子情報,および生物医学的応用における応用に対して,可視および近可視領域に向けた非線形フォトニクスの応用を拡張する。【JST・京大機械翻訳】

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非線形光学

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