抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
熱電子は,それらのLarmor半径が衝撃遷移幅より小さいので,電子-イオン衝撃における拡散加速のプロセスに直接関与せず,これは拡散衝撃加速のよく知られた電子注入問題である。代わりに,イオンジャイロ半径よりはるかに短いスケールでの電磁ゆらぎから電子を散乱する効率的な事前加速プロセスが存在する。最近発見された中間スケール不安定性は,平行衝撃におけるこのような変動を生じる自然な方法を提供する。不安定性は衝撃フロントで(上流プラズマによる)イオン-サイクロトロン波を駆動し,ドリフト速度が電子Alfven速度の半分より小さいときのみ動作した。ここでは,並列非相対論的,電子イオン衝撃における電子加速に及ぼすこの不安定性の影響を調べるために,SHARPコードによる粒子インセルシミュレーションを実行した。この目的のために,中間スケール不安定性が,それが抑制されるシミュレーションに成長すると予測される衝撃シミュレーションを比較した。特に,中間不安定性を消光するのに十分大きいAlfvenicMach数によるシミュレーションは,電子加速効率の大きな減少(2桁の大きさ)を示した。さらに,減少したイオン対電子質量比(中間不安定性も抑制される)によるシミュレーションは,電子加速を人工的に排除するだけでなく,下流および衝撃遷移領域における誤った電子およびイオン加熱をもたらす。この知見は,電子の拡散衝撃加速のプラズマ物理的理解のための有望な経路を開くが,これは,衝突のない電子-イオン衝撃のシミュレーションにおける現実的な質量比を必要とする。【JST・京大機械翻訳】