4波横方向シヤリング干渉法を用いたメタ表面光学特性評価【JST・京大機械翻訳】

Khadir Samira; Andren Daniel; Verre Ruggero; Song Qinghua; Monneret Serge; Genevet Patrice; Kaell Mikael; Baffou Guillaume

プレプリント

J-GLOBAL ID：202202205181795293 整理番号：22P0184933

4波横方向シヤリング干渉法を用いたメタ表面光学特性評価【JST・京大機械翻訳】

Metasurface optical characterization using quadriwave lateral shearing interferometry

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発行年： 2020年08月25日プレプリントサーバーでの情報更新日： 2020年08月25日
JST資料番号： O7000B 資料種別：プレプリント
記事区分：プレプリント発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

光学メタ表面は,予め定義された位相と強度透過/反射プロファイルを有する連続で極めて薄い光学部品として振舞う高密度で通常不均一な散乱ナノ構造の層から成る。今日まで,様々な種類のメタ表面(金属,誘電体,Huygens様,Pancharatman-Berry等)が,超薄レンズ,ビーム偏向器,ホログラム,または偏光界面を設計するために導入されている。それらの実際の効率は,それらの光学的性質を予測する能力に依存し,巨視的表面にナノスケール構造の10億の不均一集合体を作製する能力に依存する。メタ表面の設計の改善をさらに助けるために,正確で多目的なポストキャラクタリゼーション技術を開発する必要がある。今日では,メタ表面を特性化するために用いた技術の大部分は光強度測定に依存する。ここでは,定量的相顕微鏡技法である四次波横せん断干渉法(QLSI)が,高感度と空間分解能でメタ表面によって与えられる局所相をプローブできるので,どのような種類のメタ表面の完全な光学的キャラクタリゼーションを容易に達成できるかを示す。この技法の多用途性を例示する手段として,2種類のメタ表面,すなわちPancharatnam-Berryと有効屈折率メタ表面,および均一メタ表面,メタルセンスおよび偏向器に関する結果を示した。【JST・京大機械翻訳】

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光デバイス一般

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