抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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ナノデバイスにおけるスカイミオン操作の需要増大は,これらのトポロジー的に保護されたキラル構造の安定化を理解するための興味深い研究をもたらした。実際の形状9と実験的に観測されたスカイミオンのサイズを理解するために,磁気薄膜系におけるランダム異方性の存在における10のスカイミオン安定化を調べるためにミクロ磁気シミュレーションを行った。薄膜におけるスカイミオンイメージングの以前の実験的11報告は,スカイミオン形状は完全に円形ではないことを示した。ここでは,異なる局所13異方性エネルギーの存在により,スカイミオンの形状が歪を得ることができることをシミュレーションにより示した。一軸異方性定数(Ku)とランダム異方性定数(Kr)14の値を変化させて,スカイミオンの形状およびサイズの変化,および15の正方形磁気ナノ要素で安定化した反skyを理解した。スカイミオン形状は歪んでいて,サイズはシステムの高ランダム16異方性エネルギーに対して一定であった。【JST・京大機械翻訳】