速度と規模での革新:半導体技術を加速する次世代インフラストラクチャー【JST・京大機械翻訳】

Gottscho Richard A.; Levine Edlyn V.; Liu Tsu-Jae King; McIntyre Paul C.; Mitra Subhasish; Murmann Boris; Rabaey Jan M.; Salahuddin Sayeef; Shih Willy C.; Wong H. -S. Philip

プレプリント

J-GLOBAL ID：202202206345617266 整理番号：22P0325713

速度と規模での革新:半導体技術を加速する次世代インフラストラクチャー【JST・京大機械翻訳】

Innovating at Speed and at Scale: A Next Generation Infrastructure for Accelerating Semiconductor Technologies

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発行年： 2022年03月07日プレプリントサーバーでの情報更新日： 2022年03月07日
JST資料番号： O7000B 資料種別：プレプリント
記事区分：プレプリント発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

半導体革新は,現代社会に重要な技術の改善を推進している。半導体革新を成功裏に加速する国は,将来の半導体駆動産業をリードし,結果としての経済成長から利益をもたらす。次世代インフラストラクチャは,米国の半導体革新を加速・強化するのに必要である。本論文では,技術およびビジネスモデルの強化を伴う施設の国家ネットワークから成るそのような先進的インフラストラクチャを提案した。これらの強化は,アプリケーション駆動とチャレンジベースの研究開発を可能にし,施設がアクセス可能で持続可能であることを確実にする。主なテネットは,課題駆動運転モデル,次世代インフラストラクチャ,運転モデル,学習サイクルをスピードアップするための先進施設に必要な技術革新,および持続可能性のための革新的コスト効率の良いビジネスモデル,である。最終的に,そのような参加型,スケーラブル,および持続可能な国家レベルの先進インフラストラクチャの期待される結果は,政府,産業,および学界に多大な影響を与えるであろう。【JST・京大機械翻訳】

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気体燃料工業一般

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