二段バッファガス冷却ビーム源の理論的研究【JST・京大機械翻訳】

Singh Vijay

プレプリント

J-GLOBAL ID：202202209713175294 整理番号：22P0054296

二段バッファガス冷却ビーム源の理論的研究【JST・京大機械翻訳】

Theoretical investigation of a two-stage buffer gas cooled beam source

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発行年： 2019年01月11日プレプリントサーバーでの情報更新日： 2020年04月12日
JST資料番号： O7000B 資料種別：プレプリント
記事区分：プレプリント発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

新しい二段ヘリウムバッファガス冷却ビーム源を紹介した。この源から製造した分子ビームの特性を,試験分子としてCaFを用いて理論的に調べた。気相分子はレーザアブレーションにより3 ̄Kヘリウムバッファガスセル内で最初に生成し,その後バッファガス原子との衝突により3 ̄Kまで冷却した。予冷分子は次に0.5 ̄Kヘリウムバッファガスセルに抽出され,低温ヘリウム原子との衝突によりさらに0.5 ̄Kまで冷却される。最後に,低温分子は0.5 ̄Kセル出口開口を通して高真空中に抽出され,分子ビームを形成する。平均前進速度とビーム流束は,両方のセルがいわゆる流体力学的エントレインメント領域で操作される場合,それぞれ,パルスあたり45m/sと8×10 ̄12分子であると計算された。0.5KでのこのフラックスとMaxwell-Boltzmann確率密度関数を用いて,速度≦5 ̄m/sで移動する分子の数は8x10 ̄9であると計算された。冷分子のこれらの遅くて強いビームは,分子の効率的な磁気光学トラッピングに有益であり,超低温原子による分子の交感神経冷却を研究し,超精密分子分光法を実行する。【JST・京大機械翻訳】

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原子ビーム,分子ビーム

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