ナノスケール精度を有する高性能ダイヤモンドセンサアレイ作製のための自己整合パターン形成技術【JST・京大機械翻訳】

Wang Mengqi; Sun Haoyu; Ye Xiangyu; Yu Pei; Liu Hangyu; Zhou Jingwei; Wang Pengfei; Shi Fazhan; Wang Ya; Du Jiangfeng

プレプリント

J-GLOBAL ID：202202210252565638 整理番号：22P0305970

ナノスケール精度を有する高性能ダイヤモンドセンサアレイ作製のための自己整合パターン形成技術【JST・京大機械翻訳】

Self-aligned patterning technique for fabricating high-performance diamond sensor arrays with nanoscale precision

出版者サイト {{ this.onShowPLink() }} 複写サービスで全文入手
高度な検索・分析はJDreamⅢで

この文献はプレプリントです。プレプリントについてはこちらをご確認ください。

著者 (10件)： , , , , , , , , ,
資料名：
発行年： 2022年03月17日プレプリントサーバーでの情報更新日： 2022年03月17日
JST資料番号： O7000B 資料種別：プレプリント
記事区分：プレプリント発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

ナノスケール精度におけるフォトニック構造による欠陥中心の生成を効率的に調整することは,高性能フォトニックデバイスを実現するための優れた課題の1つであり,量子センシング,スケーラブル量子システムおよび量子コンピューティングネットワークのような量子技術における応用である。ここでは,ドーピング精度が~15nmに達することができる従来の工学技術に基づく容易な自己配列パターニング技術を提案した。特に,ダイヤモンドナノピラーセンサアレイを作製することによりこの技術を実証し,それは高い一貫性と近最適光子数,理論限界に近い高収率,および異なるNV中心に対する高いフィルタリング効率を示す。適切な結晶配向と組み合わせて,4.65Mcpsの飽和蛍光速度及び1900cps(-1/2)の最良の報告された蛍光依存性検出感度を達成した。すべての類似した固体システムに適用できるこの技術は,並列量子センシングとスケーラブルな情報処理の開発を容易にするはずである。【JST・京大機械翻訳】

, , , , , , , , , , , , ,
, , , , , 【Automatic Indexing@JST】

量子光学一般 , 半導体薄膜 , 半導体の格子欠陥 , その他の無機化合物の薄膜

, , , , , ,

前のページに戻る