文献

J-GLOBAL ID：202202210989990852   整理番号：22A0262752

CO₂中における電界を印加したLi₄SiO₄表面での炭素析出に及ぼす雰囲気温度の影響

Effect of ambient temperature on the deposition of carbon on Li₄SiO₄ surface under electric field in CO₂

著者 (2件)： 小倉康俊 (長岡技科大) ,  岡元智一郎 (長岡技科大)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM)
巻： 33rd  ページ： ROMBUNNO.2S20  発行年： 2020年08月17日 
JST資料番号： L2240B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *電場効果 ,  *析出 ,  *温度 ,  *二酸化炭素 ,  ケイ酸リチウム ,  X線回折 ,  Ramanスペクトル ,  温度依存性 ,  二酸化炭素固定化 ,  二酸化炭素回収 ,  グラファイト ,  Raman分光法
準シソーラス用語： *炭素析出 ,  *雰囲気温度 ,  レーザRamanスペクトル

分類 (2件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (5件)： CO2 ,  電界 ,  印加 ,  炭素析出 ,  雰囲気温度