極薄磁性膜における界面Dzyaloshinskii-Moriya相互作用の測定【JST・京大機械翻訳】

Kuepferling Michaela; Casiraghi Arianna; Soares Gabriel; Durin Gianfranco; Garcia-Sanchez Felipe; Chen Liu; Back Christian H.; Marrows Christopher H.; Tacchi Silvia; Carlotti Giovanni

プレプリント

J-GLOBAL ID：202202211210067480 整理番号：21P0050559

極薄磁性膜における界面Dzyaloshinskii-Moriya相互作用の測定【JST・京大機械翻訳】

Measuring interfacial Dzyaloshinskii-Moriya interaction in ultra-thin magnetic films

出版者サイト {{ this.onShowPLink() }} 複写サービスで全文入手
高度な検索・分析はJDreamⅢで

この文献はプレプリントです。プレプリントについてはこちらをご確認ください。

著者 (10件)： , , , , , , , , ,
資料名：
発行年： 2020年09月24日プレプリントサーバーでの情報更新日： 2022年03月22日
JST資料番号： O7000B 資料種別：プレプリント
記事区分：プレプリント発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

キラル磁性の起源の1つであるDzyaloshinskii-Moriya相互作用(DMI)は,現在,応用磁性とスピントロニクスに焦点を当てた研究コミュニティにおいてかなりの注目を集めている。今後の応用のためには,その強度の正確な測定が不可欠である。ここでは,Dzyaloshinskii-Moriya相互作用係数,DMI定数D,を2つの材料(すなわち,界面DMI)間の界面から相互作用が生じる系に焦点を当てて,測定の最先端技術のレビューを示した。DMI定数の定量化のための理論的背景とモデルと同様に実験技術の概要を示した。測定技術は,a)領域壁ベース測定,b)スピン波ベース測定,c)スピン軌道トルクベース測定の3つのカテゴリーに分割される。各方法の長所と短所を解析し,異なる界面でのD値を比較した。レビューは,様々なスタックへの異なる技術の適用可能性と,文献値間の見かけの不一致の起源のより良い理解を得ることを狙った。【JST・京大機械翻訳】

, , , , , , , , ,
, , , , 【Automatic Indexing@JST】

金属結晶の磁性 , 磁性理論 , 金属の磁区及び磁化過程

, ,

前のページに戻る