抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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偏光解析による中性子回折が,かなりの量のプロトン核(Temleitner et al.,Phys.Rev.B92,014201,2015)を含む不規則材料のコヒーレント静的構造因子の正確な決定にいかに適用されているかの実証に続いて,著者らは現在,インコヒーレント散乱に焦点を当てた。インコヒーレントな寄与は,水素材料からの標準(非分極)中性子回折データ,従って,この問題の重要性を,大きな困難に責任がある。ここでは, ̄1H/H比の関数として,液体アセトン,シクロヘキサン,メタノールおよび水に対するインコヒーレント散乱強度を報告した。インコヒーレント強度は偏光中性子回折によって直接決定される。この方法で,化学環境の変化によるインコヒーレントバックグラウンドの可能な変動をモニタできる。さらに,いくつかの水サンプルについて,入射中性子ビーム(0.4,0.5および0.8AA)の波長の関数としてインコヒーレント強度も測定した。各場合において,インコヒーレント強度は統計的誤差内で単一Gauss関数により記述できることが分かった。Gaussの(完全)幅(半値全幅)は,印加波長に依存する。他方,水素原子の異なる結合環境はGaussの幅に影響しないようである。【JST・京大機械翻訳】