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J-GLOBAL ID：202202213649915663   整理番号：22A0682421

Hall効果スラスタへの高温関連性におけるBNSiO_2(Borosil)のスパッタリング収率とナノパターン形成研究【JST・京大機械翻訳】

Sputtering yield and nanopattern formation study of BNSiO₂ (Borosil) at elevated temperature relevance to Hall Effect Thruster

著者 (12件)： Parida Basanta Kumar (Institute for Plasma Research, Gandhinagar, Gujarat 382428, India) ,  Sooraj K.P. (Institute for Plasma Research, Gandhinagar, Gujarat 382428, India) ,  Hans Sukriti (Institute for Plasma Research, Gandhinagar, Gujarat 382428, India) ,  Hans Sukriti (Homi Bhabha National Institute, BARC Training School Complex, Mumbai, Maharashtra 400094, India) ,  Pachchigar Vivek (Institute for Plasma Research, Gandhinagar, Gujarat 382428, India) ,  Pachchigar Vivek (Homi Bhabha National Institute, BARC Training School Complex, Mumbai, Maharashtra 400094, India) ,  Augustine Sebin (Institute for Plasma Research, Gandhinagar, Gujarat 382428, India) ,  Augustine Sebin (Homi Bhabha National Institute, BARC Training School Complex, Mumbai, Maharashtra 400094, India) ,  Remyamol T. (Advanced Materials and Ceramics Division Material and Metallurgy Group, VSSC/ISRO, Thiruvananthapuram, Kerala 695022, India) ,  Ajith M.R. (Advanced Materials and Ceramics Division Material and Metallurgy Group, VSSC/ISRO, Thiruvananthapuram, Kerala 695022, India) ,  Ranjan Mukesh (Institute for Plasma Research, Gandhinagar, Gujarat 382428, India) ,  Ranjan Mukesh (Homi Bhabha National Institute, BARC Training School Complex, Mumbai, Maharashtra 400094, India)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 514  ページ： 1-7  発行年： 2022年 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 放電壁材料の低いスパッタリング収率はHall効果Truster(HET)の性能にとって重要なパラメータである。本論文では,石英結晶微量天秤(QCM)を用いて,高温~600°CでのHET壁材料BNSiO_2(ボロシル)のスパッタリング収率を報告する。著者らは,温度によるスパッタリング収率の線形増加を観察し,Xeイオンを用いた長時間実験の間,安定したままであった。ボロシルの2つの異なる結晶学的方位は収率にわずかな変化を与える。より高い操作温度のためのより高い収率は,熱スパイク特性に起因すると提案した。顕微鏡的表面形態はBNSiO_2の異なった結晶粒のみを示すが,高分解能ナノスコピックビューは,異なる粒子上のナノリップル状構造の形成を明らかにした。そのような特徴の周期性はイオン線量(スパッタリング時間)と70-190nmの範囲の温度と共に増加する。局所曲率依存エロージョンは,そのようなパターン形成において決定的役割を果たす。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *Hall効果 ,  イオン ,  温度 ,  *高温 ,  放電 ,  キセノン ,  結晶方位 ,  結晶粒 ,  壁材 ,  高分解能 ,  *パターン形成
準シソーラス用語： 表面形態 ,  水晶微量天秤 ,  エロージョン ,  *スパッタリング収率 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： BNSiO_2(ボロシル) ,  スパッタリング収率 ,  水晶微量天秤 ,  ナノスケールパターン

分類 (1件)： スパッタリング  (BK16110U)

タイトルに関連する用語 (6件)： Hall効果 ,  スラスタ ,  関連性 ,  スパッタリング収率 ,  ナノパターン形成 ,  研究