抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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強誘電体薄膜のナノスコピックキャラクタリゼーションは,それらのデバイス応用の観点から重要である。標準キャラクタリゼーション技術は,強誘電体の分極反転に起因するナノスコピック電荷補償電流(スイッチング電流)の検出に基づいている。種々の表面およびバルク制限機構により,漏れ電流は,そのような測定中に一般的に現れ,それは,ポジティブアップネガティブダウン(PUND)測定方式を採用することによって,デバイスI-V特性を用いて頻繁に減算される。一般的に使用される強誘電体,BiFeO_3に関するナノスコピックスイッチング電流測定を実施することにより,このようなキャラクタリゼーション法は,電流バックグラウンド減算問題により,フェロ抵抗試料の偏光推定において大きな誤差の傾向があることを示した。特に,フェロ抵抗挙動が強誘電体薄膜の分極反転と関連するとき,バックグラウンド電流減算は,2つの偏光状態のI-V特性の不整合のために正確でない。非対称最小二乗減算法によりバックグラウンド電流を除去する代わりに,完全ではないが,研究中の試料の強誘電特性の非常に良好な推定を与えることを示した。【JST・京大機械翻訳】