電子後方散乱回折分析のためのジルカロイ-4の広範囲イオンビーム研磨の最適化【JST・京大機械翻訳】

Fang Ning; Birch Ruth; Britton T. Ben

プレプリント

J-GLOBAL ID：202202215627573473 整理番号：22P0024738

電子後方散乱回折分析のためのジルカロイ-4の広範囲イオンビーム研磨の最適化【JST・京大機械翻訳】

Optimizing broad ion beam polishing of zircaloy-4 for electron backscatter diffraction analysis

出版者サイト {{ this.onShowPLink() }} 複写サービスで全文入手
高度な検索・分析はJDreamⅢで

この文献はプレプリントです。プレプリントについてはこちらをご確認ください。

著者 (3件)： , ,
資料名：
発行年： 2022年01月07日プレプリントサーバーでの情報更新日： 2022年03月30日
JST資料番号： O7000B 資料種別：プレプリント
記事区分：プレプリント発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

電子後方散乱回折(EBSD)による微細構造解析には,平坦で準備の自由な自由表面を創り出すために,切断と研磨が含まれる。EBSD解析の品質は,この段階にしばしば依存しており,この動機は,広いイオンビーム(BIB)ミリングが,異なる粒径のジルカロイ-4の調製のためにどのように最適化できるかを探求する。イオンビーム角,イオンビーム電圧,研磨時間,研磨温度の役割,そして,これが表面粗さとインデクシング品質をどのように変えるかを系統的に調べた。著者らの結果は,高品質なジルカロイ-4表面を日常的に調製する方法を提供し,高品質EBSD研究のための他の材料のBIB研磨を最適化する方法を提供した。【JST・京大機械翻訳】

, , , , , , , , ,
, , , 【Automatic Indexing@JST】

電子回折法

, , , ,

前のページに戻る