移動基板上の液膜における波動の進展【JST・京大機械翻訳】

Ivanova Tsvetelina; Pino Fabio; Scheid Benoit; Mendez Miguel A.

プレプリント

J-GLOBAL ID：202202219531005550 整理番号：22P0304851

移動基板上の液膜における波動の進展【JST・京大機械翻訳】

Evolution of waves in liquid films on moving substrates

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発行年： 2022年03月15日プレプリントサーバーでの情報更新日： 2023年01月18日
JST資料番号： O7000B 資料種別：プレプリント
記事区分：プレプリント発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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液膜流の正確で計算可能なモデルは,溶融亜鉛めっきと垂直スロットダイ被覆のような被覆プロセスの最適化を可能にする。移動基板(MS)を説明するために,落下液膜(FF)の古典的三次元積分境界層(IBL)モデルを拡張した。線形および非線形設定における垂直移動基板上の液膜の安定性を解析した。線形解析では,正規モードと線形化支配方程式を用いて,無限擾乱の分散関係と時間成長速度を導いた。非線形解析では,有限サイズの擾乱を考察し,表面張力が除去された非線形方程式のセットを用いてそれらの進展を数値的に計算した。FFとMSの両構成の(線形)安定性の領域を提示し,これらのマップにおける工業的亜鉛めっきラインの操作条件を配置した。広範囲の流れ条件を解析し,線形および非線形安定性解析に従って安定であることを示した。さらに,表面張力がない場合に実施した非線形解析は,上向き移動基板によって引き出された液膜の界面動力学に対する非線形安定化機構を明らかにした。【JST・京大機械翻訳】

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, , 【Automatic Indexing@JST】

膜流,液滴,気泡,キャビテーション

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