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J-GLOBAL ID:202202219979012179   整理番号:22A0629206

安定なシリコンアノードのための自己適応電気化学研削戦略【JST・京大機械翻訳】

Self-Adapting Electrochemical Grinding Strategy for Stable Silicon Anode
著者 (9件):
資料名:
巻: 32  号:ページ: e2109887  発行年: 2022年 
JST資料番号: W1336A  ISSN: 1616-301X  CODEN: AFMDC6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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その巨大な体積変化によるリチオ化/脱リチオ化中のシリコンの微粉化は,電気化学的活性の損失をもたらす。本研究では,避けられない微粉化について利点を採り,安定なシリコンアノードのためのその場自己適応電気化学粉砕(ECG)の革新的戦略を設計した。MgH_2は,ミクロンサイズのSi粒子を電気化学的に粉砕する粉砕助剤として利用される。ECGプロセス中,MgH_2とSiのリチオ化プロセスは,異なる電位で生じ,両者は,かなりの体積膨張をもたらし,電極内部に強い内部応力をもたらす。この強い内部応力により,MgH_2,すなわちMgとLiHのリチウム化生成物は亀裂Si粒子に移動し,Mgの部分的に可逆的なリチウム化を介してイオン伝導LiHと電子伝導性から成る導電性マトリックスに徐々に変態する。ECGプロセス後,ミクロンサイズのSi粒子は平衡サイズに自発的に粉砕され,体積変化を収容し,安定なサイクリングを確実にする。調製したSiアノードは,3228mAh g-1の優れた可逆的比容量と200サイクル後に91%の容量保持を示した。提案したin situ自己適応ECG戦略は次世代リチウムイオン電池のためのSiベースアノード材料の開発に対するユニークな展望を提供する。Copyright 2022 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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