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J-GLOBAL ID：202202221733547357   整理番号：22A1071061

実験室系硬X線光電子分光法の展開

Development of Laboratory-based Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy

著者 (7件)： 西原達平 (明治大学 理工学部) ,  町田雅武 (シエンタオミクロン株式会社) ,  安野聡 (JASRI) ,  相澤守 (明治大学 理工学部) ,  相澤守 (明治大学生命機能マテリアル国際インスティテュート) ,  小椋厚志 (明治大学 理工学部) ,  小椋厚志 (明治大学再生可能エネルギーインスティテュート)
資料名： 表面と真空  (Vacuum and Surface Science)
巻： 65  号： 3  ページ： 109-114(J-STAGE)  発行年： 2022年 
JST資料番号： G0194B  ISSN： 2433-5835  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本報では,ラボラトリー型硬X線光電子分光装置(HAXPES Lab.)の基本性能,および各種測定例と今後の展望を述べる。Si基板上にAuプレートと30nm厚の熱酸化膜を用い,エネルギー分解能と測定時間について検討した。HAXPES Lab.のエネルギー分解能はAlKαX線源を用いた従来のXPSと同等であり,測定時間は同じ光電子数を確保するために放射光施設の10倍程度の時間で済む。実デバイス試料として,LSIデバイスの構造の一つである高アスペクト比トレンチ構造の化学結合状態の位置依存性,生体材料の配向制御によるタンパク質吸着性の評価を行った。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *X線光電子分光法 ,  実験室系 ,  性能 ,  金 ,  酸化膜 ,  エネルギー分解能 ,  時間 ,  X線源 ,  光電子 ,  放射光施設 ,  アスペクト比 ,  トレンチカット【加工】 ,  化学結合 ,  タンパク質
準シソーラス用語： *硬X線光電子分光 ,  展望 ,  Si基板 ,  プレート【板】 ,  熱酸化膜 ,  測定時間 ,  高アスペクト比 ,  位置依存性 ,  生体材料 ,  配向制御 ,  吸着性

著者キーワード (8件)： HAXPES研究所 ,  太陽電池 ,  LSI ,  HAXPES ,  HAXPES研究所 ,  太陽電池 ,  LSI ,  HAXPES

分類 (1件)： 電子分光法  (BK01050P)

引用文献 (23件)：

• 1) H. Oji, Y.-T. Cui, J.-Y. Son, T. Matsumoto, T. Koganezawa and S. Yasuno : J. Surf. Anal. 21, 121 (2015).
• 2) L.A. Walsh, G. Hughes, P.K. Hurley, J. Lin and L.C. Woicik : Appl. Phys. Lett. 101, 241602 (2012).
• 3) T. Nishihara, H. Kanai, Y. Ohshita, K. Nakamura, T. Kamioka, T. Hara, S. Yamaguchi, M. Koharada and A. Ogura : Mater. Sci. Semicond. Process. 132, 105887 (2021).
• 4) 岡本 薫, 阿部芳巴, 上田茂典 : 表面科学 37, 386 (2016).
• 5) N. Yabuuchi, K. Shimomura, Y. Shimbe, T. Ozeki, J.-Y. Son, H. Oji, Y. Katayama, T. Miura and S. Komaba : Adv. Energy Mater. 1, 759 (2011).

タイトルに関連する用語 (3件)： 実験室系 ,  硬X線光電子分光 ,  展開