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J-GLOBAL ID：202202223182323998   整理番号：22A0799079

金属薄膜における厚さ貫通亀裂のin situ電気抵抗ピーク広がりへの連結【JST・京大機械翻訳】

Linking through-thickness cracks in metallic thin films to in-situ electrical resistance peak broadening

著者 (5件)： Gebhart David D. (Erich Schmid Institute of Materials Science, Austrian Academy of Sciences, Jahnstrasse 12, Leoben 8700, Austria) ,  Krapf Anna (Department of Materials Science & Engineering, Institute 1, University of Erlangen-Nuernberg (FAU), Martensstrasse 5, Erlangen 91058, Germany) ,  Gammer Christoph (Erich Schmid Institute of Materials Science, Austrian Academy of Sciences, Jahnstrasse 12, Leoben 8700, Austria) ,  Merle Benoit (Department of Materials Science & Engineering, Institute 1, University of Erlangen-Nuernberg (FAU), Martensstrasse 5, Erlangen 91058, Germany) ,  Cordill Megan J. (Erich Schmid Institute of Materials Science, Austrian Academy of Sciences, Jahnstrasse 12, Leoben 8700, Austria)
資料名： Scripta Materialia  (Scripta Materialia)
巻： 212  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0915A  ISSN： 1359-6462  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電気抵抗の測定は,周期的に負荷した導電性膜の破壊基準として広く使用されている。しかし,そのような抵抗データセットに含まれる付加的情報を抽出するための多くの研究は行われていない。本研究は,ピーク幅の増加が亀裂架橋から厚さ方向の亀裂形成への遷移を示す。ポリイミド基板上のAu/Cr二層系をデータ生成に用いたが,この方法はネッキングと厚さ方向の亀裂の両方を形成し,電気的絶縁酸化物層の即時形成が損傷開始時に起きない任意の材料系に適用可能である。この方法は実装が容易であり,時間集約的で破壊的な検査方法を置き換える能力を持っている。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *亀裂 ,  *電気抵抗 ,  破壊 ,  *薄膜 ,  *金 ,  クロム ,  ポリイミド ,  厚み ,  *金属薄膜 ,  酸化層 ,  ナノ結晶
準シソーラス用語： 破壊基準 ,  *貫通亀裂 ,  二層 ,  導電膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ナノ結晶金属 ,  薄膜 ,  疲労 ,  電気抵抗 ,  厚さ貫通亀裂

分類 (2件)： セラミック材料  (HC04040H) ,  金属材料  (HC05020S)

タイトルに関連する用語 (5件)： 金属薄膜 ,  厚さ ,  貫通亀裂 ,  電気抵抗 ,  広がり