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J-GLOBAL ID：202202223456659867   整理番号：22A1077461

高強度楕円偏光レーザー場における誘電体中の電子励起率

Electron Excitation Rate in Dielectrics Under an Intense Elliptically Polarized Laser Field

著者 (2件)： VENKAT Prachi (National Inst. for Quantum Sci. and Technol. (QST), Kyoto, JPN) ,  OTOBE Tomohito (National Inst. for Quantum Sci. and Technol. (QST), Kyoto, JPN)
資料名： Journal of the Physical Society of Japan  (Journal of the Physical Society of Japan)
巻： 91  号： 4  ページ： 044401.1-044401.5  発行年： 2022年04月15日 
JST資料番号： G0509A  ISSN： 0031-9015  CODEN： JUPSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 誘電体中の電子励起を楕円偏光レーザー場に対して研究した。最初のステップとして,先行研究[Otobe et al., J. Phys. Soc. Jpn. 88, 024709 (2019)]の延長として,楕円偏光レーザー下での電子励起率の解析式を作成した。次に,還元質量の方向依存性を仮定し,バンド構造に依存する励起率を計算した。その結果,等方性系では楕円度が励起率を大きく低下させるが,異方性バンド構造ではバンド内ダイナミクスによる電子のエネルギー振動により,楕円度が高くなると励起率が上昇することがわかった。この結果は,バンド異方性に応じて楕円率を変えることで,誘電体中の励起率を制御できることを示している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *パルスレーザ ,  *楕円偏光 ,  *誘電体 ,  *電子励起 ,  放射場 ,  質量 ,  依存性 ,  バンド構造 ,  励起 ,  等方性 ,  動力学 ,  異方性
準シソーラス用語： *高強度レーザ ,  レーザ場 ,  還元質量 ,  方向依存性 ,  励起率 ,  ダイナミクス

分類 (2件)： 電子構造一般  (BM02010K) ,  誘電体測定技術・装置  (BM05020Q)

引用文献 (26件)：

• K. M. Davis, K. Miura, N. Sugimoto, and K. Hirao, Opt. Lett. 21, 1729(1996).
• K. Miura, J. Qiu, H. Inouye, T. Mitsuyu, and K. Hirao, Appl. Phys. Lett. 71, 3329 (1997).
• V. R. Bhardwaj, E. Simova, P. P. Rajeev, C. Hnatovsky, R. S. Taylor, D. M. Rayner, and P. B. Corkum, Phys. Rev. Lett. 96, 057404 (2006).
• R. R. Gattass and E. Mazur, Nat. Photonics 2, 219 (2008).
• S. Ghimire, A. D. DiChiara, E. Sistrunk, P. Agostini, L. F. DiMauro, and D. A. Reis, Nat. Phys. 7, 138 (2011).

タイトルに関連する用語 (5件)： 高強度 ,  楕円偏光 ,  レーザー場 ,  誘電体 ,  電子励起